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  • RF Power Supply for PECVD -Tmax
    PECVD 용 RF 전원 공급 장치
    PECVD 용 RF 전원 공급 장치 PECVD 시스템은 관로, 석영 진공 챔버, 진공 시스템, 가스 공급 시스템 및 무선 주파수 전원 공급 시스템으로 구성됩니다. 주로 사용되는 용도 : 금속 박막, 세라믹 박막, 복합 박막, 그래 핀 등의 성장으로 기능 추가가 용이하고 플라즈마 세정, 식각 등의 기능을 확장 할 수 있습니다. PECVD 시스템은 높은 성막 속도, 우수한 균일 성, 높은 일관성 및 안정성의 장점을 가지고 있습니다. RF 전원의 주요 기술 매개 변수 공급 : 전력 출력 범위 0-500W 최대 반사 전력 200W 작동 주파수 RF : 13.56MHZ ± 0.005 % 전력 안정성 + / -0.1 % 고조파 성분 ≤-50dbc rf 영역 너비 0-600mm 조정 가능 일치하는 방법 자동적 인 냉각 모드 추위 소음
    태그 : RF 전원 공급 장치 PECVD CVD로
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